高科技的隐形威胁：半导体工厂的安全问题

半导体是现代电子技术的支柱，支撑着无数日常依赖的设备运转。这些介于导体与绝缘体之间的导电材料，在集成电路、晶体管及其他电子元件的制造中不可或缺。然而，由于生产环境要求高度无菌，且需使用维持洁净度的特殊产品，半导体制造过程存在显著的化学危害，须采取严格的安全措施。

半导体制造中的化学危险

半导体行业使用多种危险化学品，包括：

氢氟酸：用于硅晶片的蚀刻与清洗

硫酸：应用于清洗、湿法蚀刻及湿法剥离工艺

丙酮、异丙醇等溶剂：用于清洁与脱脂

这些化学品对工人构成严重威胁，可能导致严重灼伤、呼吸系统问题及潜在的长期健康损害。

化学灼伤源于皮肤组织与腐蚀性或强碱性物质的直接接触。酸碱化合物均可造成组织损伤，其严重程度主要取决于接触时长。值得注意的是，碱性物质往往比酸性物质更顽固地附着于皮肤，可能需要更长时间冲洗才能有效清除。及时采取适当处理措施对减轻组织损伤至关重要。

氟化氢尤其会造成烧伤，且伤势可能不会立即显现，若未及时冲洗，它会渗入皮肤深层造成严重伤害。同样地，当任何腐蚀性物质接触眼睛时，即使浓度较低也可能导致角膜永久性损伤或其他长期眼部健康问题。

发生化学品泄漏时，立即进行去污至关重要。这凸显了为人员配备安全淋浴装置和洗眼站的重要性。

安全淋浴装置保障工人安全

隔间式安全淋浴装置是众多半导体工厂的热门解决方案，因其能在伤员进行去污处理时更大限度减少化学物质向周边区域的污染或扩散。配备ABS封闭式洗眼器的休斯隔间安全淋浴装置，是半导体制造工厂快速去污的典范方案。该设备提供：

• 每分钟76升的最低流量，满足全身去污需求
• 1秒内启动，紧急情况即时缓解
• 封闭式面盆设计的眼/面部冲洗装置，有效阻隔外部污染物与碎屑
• 带可选条形屏风的封闭式隔间，形成防污染区域防止环境扩散
• 玻璃钢集水槽配格栅，使用后安全导流污染水。若现场排水点较远，可选配集水槽泵型号。

本设备高度可定制，能适应多种场地需求。封闭式洗眼器可内置或外置安装，支持独立或同步操作。

此外，HUGHES公司还生产一系列采用粉末涂层不锈钢制造的实验室安全淋浴装置，可有效防止腐蚀，并可选配遮羞帘。

符合EN与ANSI标准

当发生化学品飞溅或泄漏时，该安全淋浴装置可提供每分钟76升的持续冲洗，持续时间超过15分钟，满足EN与ANSI标准规定的要求。设备采用简易手柄启动设计，并可选配脚踏板实现免提操作。此外，安全设备必须安装在10秒可达范围内，且与潜在危险源处于同一水平面。